单束离子研磨仪型号：HSC121产品展示:01原理介绍HSC 121单离子束研磨仪 ，配备一把鞍型场离子枪及不同的样品台和装样工装 ，用于对样品进行高精度抛光和切割。02主要技术参数:真空系统• 真空获得：前级机械泵，后级分子泵• 极限真空：优于10-4Pa离子枪• 离子枪种类：鞍型场枪，非聚焦• 离子枪数量：1把• 离子枪加速电压：0~10kV• 离子枪工作电流：最大6mA• 离子枪工作气...

射频方式的非金属靶材镀膜 什么是射频射频射频（RF）溅射技术是制备非金属材料薄膜的核心工艺，其通过高频交变电场有效解决了绝缘靶材在沉积过程中的电荷积累问题，从而实现了氧化物、氮化物及陶瓷等介电材料的高质量镀膜 。与直流（DC）溅射仅适用于导电靶材不同，RF溅射利用频率通常为13.56 MHz的射频电源，使等离子体中的电子能够跟随电场快速振荡，从而在绝缘靶表面形成负的直流自偏压，维持放电的连续...

离子束刻蚀镀膜研磨仪型号：HSC126产品展示:01原理介绍HSC 126离子束刻蚀镀膜研磨仪 ，配备两把鞍型场离子枪，其中一把用于对样品进行精细化镀膜 ，一把用于对样品进行高精度抛光和切割。02主要技术参数:真空系统• 真空获得：前级机械泵，后级分子泵• 极限真空：优于10-4Pa离子枪• 离子枪种类：鞍型场枪，非聚焦• 离子枪数量：2把• 离子枪加速电压：0~10kV• 离子枪工作电流：...

离子束刻蚀镀膜仪型号：HSC120产品展示:01原理介绍HSC 120离子束刻蚀镀膜仪 ，配备一把鞍型场离子枪，用于对样品进行精细化镀膜。该产品设置有专利设计的金字塔型靶材托 ，可以同时安装四块不同的靶材且互相不干扰 ，可以同时支持金属靶材和碳靶材，无需用户换用不同的机器或频繁更换靶材，即可完成高效镀膜或复合镀膜。02主要技术参数:真空系统• 真空获得：前级机械泵，后级分子泵• 极限真空：优...

多束离子研磨仪型号：IMP120产品展示:01原理介绍IMP 120多束离子研磨仪配备三把宽场鞍型场离子枪，以氩气作为工作气体，可以产生稳定的宽场氩离子束流。IMP 120多束离子研磨仪通过更换可拆卸式的样品台来实现不同的功能。不同的样品台分别可以实现氩离子平面抛光、截面切割、双面减薄等不同功能，并可选配真空传输、冷台和冷冻传输装置，对样品进行进一步的保护，是一种多功能的电镜样品微纳加工设备...

手套箱SEM 真空转移盒/系统型号：GTS20/GTS80设备照片:GTS20 真空转移盒A方案：侧开式-打开状态 GTS20 真空转移盒A方案：侧开式-关闭状态GTS20 真空转移盒B方案：顶开式01原理介绍隆斯克普手套箱 SEM 真空转移盒 /系统适合于需要将手套箱中的样品在保护下直接转入 SEM 进行观测的场景。例如，易与水、氧等成分发生化学反应的电池材料，进入SEM 观察特别需要进行...